Sekundärionen-Massenspektroskopie (ToF-SIMS)

Die ToF-SIMS-Technik analysiert die atomare und molekulare Zusammensetzung der obersten 1–3 Monolagen eines Festkörpers. Dabei werden schwere Ionen auf die Oberfläche geschossen, was Sekundärionen freisetzt. Diese werden in Bezug auf ihre Masse analysiert – mit extrem hoher Empfindlichkeit (Nachweisgrenzen im fmol-Bereich) und Oberflächenempfindlichkeit.

ToF-SIMS ermöglicht bildgebende Analysen ab einer Auflösung von etwa 1 µm und kann mittels Sputtern Tiefenprofile erstellen. Typische Anwendungen sind Haftungsversagen, Restschmutzanalyse, Metallreinigung, Kunststoffadditivierung, Weichmachermigration, optische Schichten und Korrosion